低压化学气相沉积氮化硅薄膜工艺研究

刘宗芳, 尤益辉, LEE Choonghyun

智能物联技术 ›› 2024, Vol. 56 ›› Issue (1) : 81-84.

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低压化学气相沉积氮化硅薄膜工艺研究

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Research on the Process of Low Pressure Chemical Vapor Deposition of Silicon Nitride Film

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